各鎮(zhèn)街、平臺(tái)，有關(guān)企業(yè)：

    根據(jù)《臨平區(qū)支持產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展政策的實(shí)施意見》（臨平政發(fā)〔2021〕40號）文件精神，經(jīng)研究，決定從即日起公開征集2020年和2021年兩年相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)授權(quán)補(bǔ)助?，F(xiàn)將有關(guān)事項(xiàng)通知如下：

一、征集條件（須同時(shí)滿足）

 1、2020年1月1日至2021年12月31日授權(quán)的國內(nèi)發(fā)明專利，國外發(fā)明專利或完成登記的集成電路布圖設(shè)計(jì)；

 2、2021年1月1日至2021年12月31日新獲批的地理標(biāo)志商標(biāo)（產(chǎn)品）、產(chǎn)業(yè)集群商標(biāo)和證明（集體）商標(biāo)；

 3、企事業(yè)單位工商注冊地址須在臨平區(qū)轄區(qū)內(nèi)，自然人申請和獲權(quán)地址需在臨平區(qū)轄區(qū)內(nèi)；

 4、申請人為第一權(quán)利人。

二、征集時(shí)間

本次征集工作自5月5日起至5月20日，逾期不予受理。

三、所需材料

四、注意事項(xiàng)

 1、國內(nèi)、國外專利發(fā)明、集成電路布圖設(shè)計(jì)均為1件起受理（每件按官費(fèi)發(fā)票的50%）。

 2、新獲批的地理標(biāo)志、產(chǎn)業(yè)集群商標(biāo)、證明（集體）商標(biāo)，每件獎(jiǎng)勵(lì)10萬元。

附件：

附件1：臨平區(qū)發(fā)明專利授權(quán)獎(jiǎng)勵(lì)申請表.doc

附件2：臨平區(qū)集成電路布圖設(shè)計(jì)登記獎(jiǎng)勵(lì)申請表.doc

附件3：臨平區(qū)商標(biāo)獎(jiǎng)勵(lì)申請表.doc

附件4：資金申請匯總表.doc

附件5：臨平區(qū)財(cái)政扶持資金撥款申請書.doc

（掃描二維碼獲取附件）